中國科研人員創新微芯片製造技術，或可超越美國制裁

這份報告題為《穩態微聚束形成機制的實驗演示》（Experimental demonstration of the mechanism of steady-state microbunching）。該研究的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源，這使得中國繞過對用於生產微芯片的光刻機的限製成為可能。

中國科研團隊相信，一種稱為穩態微聚束(SSMB)的新方法可以用於大規模生產高質量的微芯片，並減少中國對阿斯麥(ASML，先進半導體材料光刻)公司等行業巨頭的光刻系統的依賴。

據悉，清華大學團隊正在與雄安新區有關部門積極商討，為這一尖端項目選址。

阿斯麥（ASML）等商業公司傾向於縮小芯片製造設備的規模以利出口，與之相反，中國項目的目標是通過建造一個巨大的工廠，將多台光刻機集中在一台加速器周圍，實現本地化製造。 這項創新可以促進大批量、低成本的芯片製造，並有可能推動中國在先進芯片（即2納米芯片）的工業生產中發揮領導作用。

光刻系統是人類創造的最複雜的機器之一。目前，超短波長的極紫外(EUV)廣泛應用於7納米及以下節點的芯片生產。 阿斯麥（ASML）是唯一擁有該技術的公司，因此在市場上佔據主導地位。截至2022年底，阿斯麥（ASML）已經交付了180套EUV系統。根據彭博社4月份發佈的一份報告，該公司計劃今年再交付60套EUV系統。

雖然有許多研究人員在追逐這項技術，但中國科學家一直在探索一條不同的道路。中國團隊研究背後的理論是一種新的發光機制，稱為穩態微聚束（SSMB）。該理論利用帶電粒子在加速過程中釋放的能量作為光源。其結果是產生帶寬窄、散射角小和連續的純EUV光。帶電粒子加速時會發光，利用這一現象的加速器是目前最亮的人造光源之一。

與目前的ASML EUV技術相比，SSMB是一種更理想的光源。它具有較高的平均功率和較高的芯片產量和較低的單位成本。SSMB光源的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源，這也是國際社會高度關注清華大學這項研究的原因。科學家指出，這項技術可以讓中國超越美國的制裁。