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中國科研人員創新微芯片製造技術，或可超越美國制裁

中國科研人員創新微芯片製造技術，或可超越美國制裁

俄羅斯衛星通訊社

根據清華大學工程物理系唐傳祥教授帶領的一個研究小組與德國科研團隊在《自然》雜誌上發表的研究論文，名為“穩態微束”(SSMB)的新型粒子加速器光源為大規模製造高質量微芯片提供一條新的技術途徑。 2023年9月26日, 俄羅斯衛星通訊社

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這份報告題為《穩態微聚束形成機制的實驗演示》（Experimental demonstration of the mechanism of steady-state microbunching）。該研究的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源，這使得中國繞過對用於生產微芯片的光刻機的限製成為可能。中國科研團隊相信，一種稱為穩態微聚束(SSMB)的新方法可以用於大規模生產高質量的微芯片，並減少中國對阿斯麥(ASML，先進半導體材料光刻)公司等行業巨頭的光刻系統的依賴。據悉，清華大學團隊正在與雄安新區有關部門積極商討，為這一尖端項目選址。阿斯麥（ASML）等商業公司傾向於縮小芯片製造設備的規模以利出口，與之相反，中國項目的目標是通過建造一個巨大的工廠，將多台光刻機集中在一台加速器周圍，實現本地化製造。 這項創新可以促進大批量、低成本的芯片製造，並有可能推動中國在先進芯片（即2納米芯片）的工業生產中發揮領導作用。光刻系統是人類創造的最複雜的機器之一。目前，超短波長的極紫外(EUV)廣泛應用於7納米及以下節點的芯片生產。 阿斯麥（ASML）是唯一擁有該技術的公司，因此在市場上佔據主導地位。截至2022年底，阿斯麥（ASML）已經交付了180套EUV系統。根據彭博社4月份發佈的一份報告，該公司計劃今年再交付60套EUV系統。雖然有許多研究人員在追逐這項技術，但中國科學家一直在探索一條不同的道路。中國團隊研究背後的理論是一種新的發光機制，稱為穩態微聚束（SSMB）。該理論利用帶電粒子在加速過程中釋放的能量作為光源。其結果是產生帶寬窄、散射角小和連續的純EUV光。帶電粒子加速時會發光，利用這一現象的加速器是目前最亮的人造光源之一。與目前的ASML EUV技術相比，SSMB是一種更理想的光源。它具有較高的平均功率和較高的芯片產量和較低的單位成本。SSMB光源的潛在應用之一是作為未來EUV光刻機的光源，這也是國際社會高度關注清華大學這項研究的原因。科學家指出，這項技術可以讓中國超越美國的制裁。

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