媒體:中國開始生產自主研發的DUV光刻機,預計年內交付

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芯片 - 俄羅斯衛星通訊社, 1920, 28.07.2026
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路透社援引西方科技媒體“The Information”報道稱,中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外(DUV)光刻機。在美國正考慮進一步收緊對外國光刻設備對華出口及在華維修服務限制的背景下,該技術或為中國芯片製造商提供關鍵設備的替代來源。
報道指出,中國國產光刻機預計將於今年內交付給包括中芯國際、華虹半導體和長鑫存儲在內的國內主要芯片製造商。知情人士未透露這家獲得國家支持的製造商的具體名稱。
此類芯片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商阿斯麥(ASML)主導。此次突破或將對阿斯麥在中國市場的地位構成潛在挑戰。2019年,荷蘭政府未續發阿斯麥向中國出口EUV光刻機所需的許可證,相關設備最終未能交付。自此之後,阿斯麥未再向中國客戶交付過EUV光刻機。
報道稱,中國國產DUV初期產量較為有限,預計今年生產約5台,2027年產量約為20台。
《金融時報》去年9月曾報道,中芯國際測試的國產浸沒式DUV光刻機來自上海企業宇量昇。該公司與深圳國資控股的新凱來存在資本或項目關聯,因此外界有時將其稱為“新凱來系”光刻機。該設備當時仍處於測試與調校階段,目標為在2027年前後實現商業量產。
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